Mittels FLA (Flash Lamp Annealing) ist es möglich, Wärmeenergie in extrem kurzen Pulszeiten (µs bis ms) in Festkörpersysteme einzubringen.
In Abhängigkeit von der Zeitdauer und der Energiedichte des Pulses kann der Wärmeenergieeintrag gezielt gesteuert werden.
DTF FLA100
Technische Daten
- Anlage DTF – FLA100
- Vorheiztemperatur bis 600 °C
- Vakuumkammer
- Bestrahlungsfläche 100 mm (4“)
- Energiedichten (0,1 – 22) J/cm²
- Impulslänge: (0,4 – 3) ms
- Xe-Blitzlampen Spektrum: UV-VIS-NIR
Vakuumkammer und Lampengehäuse der FLA100
Anwendungen
- Realisierung von flachen Dotierungsprofilen
- Temperprozess für temperaturempfindliche Bauteile und Substrate