In unseren Dünnschichtlaboren können mittels Vakuumbeschichtung metallische, oxidische sowie nitridische Schichten und Schichtsysteme abgeschieden werden. Reaktive Abscheidungen mit Sauerstoff, Stickstoff, Wasserstoff oder H20 sind ebenfalls möglich.

Unsere technische Ausstattung ermöglicht:

Magnetronsputtern

• Anlage Leybold Z400
  • DC- und 13,56 MHz-Anregung möglich
  • 3 x 75 mm-Targets über Probe schwenkbar
  • in situ-Reinigung der Probe mit Diodenplasma
  • maximale Substratgröße 75 mm
  • schleusbare Substratdicke bis ca. 8 mm möglich

 

• Anlage Prevac PRIMS 032
  • Ko-Sputtern mit 3x 2-Zoll Sputterquellen
  • DC-, 13,56 MHz- und 27,56 Anregung möglich
  • Substratheizung bis ca. 500 °C möglich
  • Probenrotation möglich
  • Schleusenkammer nachgerüstet
  • maximale schleusbare Substratgröße ca. 40 x 40 mm²

 

verwendete Target-Materialien:

• Metalle: Ag, Al, Au, Au:Be, Au:Ge, Bi, C, Co, Cr, Cr:Ni, Cu, Fe, Ge, In, In:Sn, Mn, Mg, Mo, MoSi2, Nb, Ni, Ni:Cr, Ni:V, Pb, Pd, Pt, Ru, Si, Sn, Sn:Sb, Ti, Ti:Nb, Ti:Ta, Ti:V, Ti:Zr, TiSi2, V, W, W:Ti, Zn, Zn:Al, Zr:Y
• Oxide: Al2O3, In2O3, In2O3:Cer, In2O3:Cu, In2O3:Mo, In2O3:Pd, In2O3:ZrO, ITO, TiO2, TiOx, TiO2:Nb, SiO2, SnO2, SnOx:Ta, VOx, ZnO, ZrO2
• Nitride: AlN, BN, Si3N4

Thermisches Verdampfen im Schiffchen